远程等离子体源是一种采用空间分离设计的等离子体装置,其核心特征是将等离子体的激发区域与工艺反应区域在物理上隔开。射频能量在专用的源腔室内高效产生高密度等离子体,所生成的中性活性基团(如自由基)被定向输运至下游的工艺腔室。这种结构使基片得以避开高能离子的直接轰击和等离子体辐照损伤,同时实现了等离子体密度与离子能量的独立调控,广泛应用于对损伤敏感的半导体刻蚀、薄膜沉积和表面处理等低温工艺领域。
联系我们
高频架构,能耗低
解离率>95%,工艺气体利用率高
1-8Torr
最大流量:36L
Ar、NF3、CxFy、O2、N2、NH3等
半导体
光伏
微机电系统
腔体清洁
薄膜沉积
| 工作频率 | 功率 | 冷却方式 | 尺寸 | 通讯接口 | 通讯接口(可选) |
|---|---|---|---|---|---|
| NA | NA | 水冷 | 241mm(宽) 266.5mm(高) 438mm(深) | RS232/485; |