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远程等离子体源是一种采用空间分离设计的等离子体装置,其核心特征是将等离子体的激发区域与工艺反应区域在物理上隔开。射频能量在专用的源腔室内高效产生高密度等离子体,所生成的中性活性基团(如自由基)被定向输运至下游的工艺腔室。这种结构使基片得以避开高能离子的直接轰击和等离子体辐照损伤,同时实现了等离子体密度与离子能量的独立调控,广泛应用于对损伤敏感的半导体刻蚀、薄膜沉积和表面处理等低温工艺领域。

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产品特性

 

能耗低

高频架构,能耗低

 

利用率高

解离率>95%,工艺气体利用率高

 

工作压力

1-8Torr

 

最大流量

最大流量:36L

 

工作气体

Ar、NF3、CxFy、O2、N2、NH3等

应用领域

半导体

光伏

微机电系统

腔体清洁

薄膜沉积

规格参数


工作频率功率冷却方式尺寸通讯接口通讯接口(可选)
NANA水冷241mm(宽)

266.5mm(高)

438mm(深)

RS232/485;